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사양 | 99.999% |
산소+아르곤 | ≤ 1ppm |
질소 | ≤4 ppm |
수분 (H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0.1 ppm |
CO | ≤0.1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halocarbynes | ≤1 ppm |
총 불순물 | ≤10 ppm |
탄소 테트라 플루오 라이드는 화학식 CF4를 갖는 할로겐화 탄화수소이다. 그것은 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 된 메탄, 퍼플 루오로 카본 또는 무기 화합물로 간주 될 수있다. 탄소 테트라 플루오 라이드는 물에 불용성이며 벤젠과 클로로포름에 용해 된 무색의 무색 가스입니다. 정상적인 온도 및 압력 하에서 안정적, 강한 산화제, 가연성 또는 가연성 물질을 피하십시오. 비전동 가스, 용기의 내부 압력은 고열에 노출되면 증가하며 균열과 폭발의 위험이 있습니다. 화학적으로 안정적이며 불꽃이 발생하지 않습니다. 액체 암모니아-소체 금속 시약 만 실온에서 작동 할 수 있습니다. 탄소 테트라 플루오 라이드는 온실 효과를 유발하는 가스입니다. 매우 안정적이고 오랫동안 대기에 머무를 수 있으며 매우 강력한 온실 가스입니다. 탄소 테트라 플루오 라이드는 다양한 통합 회로의 혈장 에칭 공정에서 사용됩니다. 또한 레이저 가스로 사용되며 저온 냉매, 용매, 윤활제, 절연 재료 및 적외선 검출기를위한 냉각제에 사용됩니다. 마이크로 전자 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 그것은 테트라 플루오로 메탄 고급 가스와 테트라 플루오로 메탄 고급 가스 및 고급 산소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화 실리콘, 질화물 및 포스 포 실리케이트 유리에서 널리 사용될 수 있습니다. 텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 장치의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉장, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산에서 세제에 널리 사용됩니다. 통합 회로를위한 저온 냉매 및 플라즈마 드라이 에칭 기술로 사용됩니다. 저장 예방 조치 : 시원하고 통풍이 잘되지 않은 비전동 가스 창고에 보관하십시오. 화재와 가열로부터 멀리하십시오. 저장 온도는 30 ° C를 초과해서는 안됩니다. 쉽게 (가연성) 가연성 및 산화제와 별도로 보관해야하며 혼합 저장을 피해야합니다. 저장 영역에는 누설 응급 치료 장비가 장착되어 있어야합니다.
① 냉매 :
테트라 플루오로 메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.
② 에칭 :
그것은 전자 유전자 미세 가공 단독 또는 실리콘, 이산화 실, 실리콘 질화물의 혈장 에센트로서 산소와 함께 사용됩니다.
제품 | 탄소 테트라 플루오 라이드 CF4 | ||
패키지 크기 | 40LTR 실린더 | 50LTR 실린더 | |
순 무게/실링 | 30kg | 38kg | |
20'Container에 수량으로로드되었습니다 | 250 실 | 250 실 | |
총 순 중량 | 7.5 톤 | 9.5 톤 | |
실린더 용기 무게 | 50kg | 55kg | |
판막 | CGA 580 |
고 순도, 최신 시설;
ISO 인증서 제조업체;
패스트 배달;
모든 단계에서 품질 관리를위한 라인 분석 시스템;
채우기 전에 실린더를 처리하기위한 요구 사항과 세심한 프로세스;이 조직은“좋은 품질로 1 위, 신용 기록과 성장에 대한 신뢰성에 뿌리를두고있다”라는 철학을지지하며, 중국 2018 년 최고 프리 셀리스트를 위해 집과 해외에서 이전의 새로운 고객을 최우수 공급 공급 테라 플루오 라이드 CF4 가스, 당신과의 장기적인 비즈니스 관계를 구축하기 위해 진심으로 희망합니다.
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