특수 가스
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사불화황(SF4)
EINECS 번호: 232-013-4
CAS 번호: 7783-60-0 -
아산화질소(N2O)
웃음 가스로도 알려진 아산화질소는 N2O라는 화학식을 가진 위험한 화학 물질입니다.무색의 달콤한 냄새가 나는 가스입니다.N2O는 특정 조건에서 연소를 지원할 수 있는 산화제이지만 실온에서 안정적이며 약간의 마취 효과가 있습니다., 사람들을 웃게 만들 수 있습니다. -
사불화탄소(CF4)
사불화탄소(tetrafluoromethane)라고도 하는 사불화탄소는 상온 및 상압에서 무색의 기체로 물에 녹지 않습니다.CF4 가스는 현재 마이크로일렉트로닉스 산업에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다.또한 레이저 가스, 극저온 냉매, 용제, 윤활제, 단열재, 적외선 감지기 튜브의 냉각제로도 사용됩니다. -
설퍼릴 플루오라이드(F2O2S)
유독 가스인 Sulfuryl fluoride SO2F2는 주로 살충제로 사용됩니다.Sulfuryl fluoride는 강한 확산 및 투과성, 넓은 스펙트럼의 살충제, 낮은 용량, 낮은 잔류량, 빠른 살충 속도, 짧은 가스 분산 시간, 저온에서의 편리한 사용, 발아율에 영향을 미치지 않고 낮은 독성의 특성을 가지고 있기 때문에 더 많은 창고, 화물선, 건물, 저수지 댐, 흰개미 방지 등에 점점 더 널리 사용되고 있습니다. -
실란(SiH4)
실란 SiH4는 정상 온도 및 압력에서 무색의 독성이 있는 매우 활동적인 압축 가스입니다.실란은 실리콘의 에피택셜 성장, 폴리실리콘, 산화규소, 질화규소 등의 원료, 태양전지, 광섬유, 유색유리 제조, 화학기상증착 등에 널리 사용된다. -
옥타플루오로사이클로부탄(C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, 가스 순도: 99.999%, 종종 식품 에어로졸 추진제 및 중간 가스로 사용됩니다.반도체 PECVD(Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition) 공정에 많이 사용되며, C4F8은 CF4나 C2F6의 대용으로 사용되며 세정가스 및 반도체 공정 식각가스로 사용된다. -
산화질소(NO)
산화질소 가스는 화학식이 NO인 질소 화합물입니다.물에 녹지 않는 무색, 무취의 독성 가스입니다.산화질소는 화학적으로 매우 반응성이 높으며 산소와 반응하여 부식성 가스인 이산화질소(NO₂)를 형성합니다. -
염화수소(HCl)
염화수소 HCL 가스는 자극적인 냄새가 나는 무색 가스입니다.그 수용액은 염산이라고도하는 염산이라고합니다.염화수소는 주로 염료, 향료, 의약품, 각종 염화물 및 부식 억제제를 만드는 데 사용됩니다. -
헥사플루오로프로필렌(C3F6)
Hexafluoropropylene(화학식: C3F6)은 상온 및 상압에서 무색 가스입니다.주로 다양한 불소 함유 정밀 화학 제품, 의약품 중간체, 소화제 등을 제조하는 데 사용되며 불소 함유 고분자 재료를 제조하는 데에도 사용할 수 있습니다. -
암모니아(NH3)
액체 암모니아 / 무수 암모니아는 광범위한 응용 분야의 중요한 화학 원료입니다.액체 암모니아는 냉매로 사용할 수 있습니다.주로 질산, 요소 및 기타 화학 비료를 생산하는 데 사용되며 의약품 및 농약의 원료로도 사용할 수 있습니다.방위 산업에서는 로켓과 미사일의 추진제를 만드는 데 사용됩니다.
