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사양 | 99.999% |
산소+아르곤 | 1ppm 이하 |
질소 | 4ppm 이하 |
수분(H2O) | 3ppm 이하 |
HF | 0.1ppm 이하 |
CO | 0.1ppm 이하 |
CO2 | 1ppm 이하 |
SF6 | 1ppm 이하 |
할로카르빈 | 1ppm 이하 |
총 불순물 | 10ppm 이하 |
사불화탄소는 화학식 CF4를 갖는 할로겐화 탄화수소입니다. 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 퍼플루오로카본 또는 무기 화합물로 간주될 수 있습니다. 사불화탄소는 무색, 무취의 기체로 물에 불용성이며 벤젠과 클로로포름에 용해됩니다. 상온 및 압력에서 안정하며 강한 산화제, 인화성 또는 가연성 물질을 피하십시오. 불연성 가스이므로 고열에 노출되면 용기 내부의 압력이 상승하여 균열 및 폭발의 위험이 있습니다. 화학적으로 안정하고 불연성입니다. 액체 암모니아-나트륨 금속 시약만이 실온에서 작동할 수 있습니다. 사불화탄소는 온실 효과를 일으키는 가스입니다. 매우 안정적이고 오랫동안 대기 중에 머물 수 있으며 매우 강력한 온실가스입니다. 사불화탄소는 다양한 집적 회로의 플라즈마 에칭 공정에 사용됩니다. 레이저 가스로도 사용되며 저온 냉매, 용제, 윤활제, 절연재, 적외선 감지기의 냉각수 등에 사용됩니다. 마이크로 전자공학 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 사불화메탄 고순도 가스와 사불화메탄 고순도 가스와 고순도 산소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화규소, 인규산염 유리에 널리 사용할 수 있습니다. 텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 장치의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉동, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산의 세제에도 널리 사용됩니다. 집적회로용 저온 냉매 및 플라즈마 건식 식각 기술로 사용됩니다. 보관상의 주의사항 : 서늘하고 통풍이 잘 되는 불연성 가스창고에 보관하십시오. 화재 및 열원에서 멀리 보관하십시오. 보관 온도는 30°C를 초과해서는 안 됩니다. 쉽게(가연성) 가연성 물질, 산화제와 분리하여 보관하고 혼합보관을 피해야 합니다. 보관 장소에는 누출 비상 처리 장비를 갖추어야 합니다.
① 냉매 :
테트라플루오로메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.
② 에칭:
이는 전자 미세 가공에 단독으로 사용되거나 실리콘, 이산화규소 및 질화규소에 대한 플라즈마 식각액으로 산소와 함께 사용됩니다.
제품 | 사불화탄소 CF4 | ||
패키지 크기 | 40Ltr 실린더 | 50Ltr 실린더 | |
채우는 순중량/Cyl | 30Kg | 38Kg | |
20'컨테이너에 적재된 수량 | 250 실린더 | 250 실린더 | |
총 순중량 | 7.5톤 | 9.5톤 | |
실린더 용기 중량 | 50Kg | 55Kg | |
판막 | CGA 580 |
①고순도, 최신설비;
②ISO 인증서 제조업체;
③빠른 배송;
④모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템;
5충진 전 실린더 취급에 대한 높은 요구 사항과 세심한 프로세스;귀하에게 편의를 제공하고 사업을 확대하기 위해 우리는 QC 팀에 검사관을 두고 있으며 냉매 R14 가스로서 가장 저렴한 가격의 고품질 테트라플루오로메탄 가스 CF4에 대한 최고의 서비스와 제품을 보장합니다. 우리의 서비스 개념은 정직, 공격적, 현실적 및 혁신입니다. . 여러분의 지원으로 우리는 훨씬 더 성장할 것입니다.
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