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| 사양 | 99.999% |
| 산소+아르곤 | ≤1ppm |
| 질소 | ≤4ppm |
| 수분(H2O) | ≤3ppm |
| HF | ≤0.1ppm |
| CO | ≤0.1ppm |
| 이산화탄소 | ≤1ppm |
| SF6 | ≤1ppm |
| 할로카르빈 | ≤1ppm |
| 총 불순물 | ≤10ppm |
사불화탄소는 화학식 CF4를 갖는 할로겐화 탄화수소입니다. 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 과불화탄소 또는 무기 화합물로 간주될 수 있습니다. 사불화탄소는 무색 무취의 기체로 물에는 녹지 않지만 벤젠과 클로로포름에는 녹습니다. 상온 상압에서 안정하며, 강산화제, 인화성 또는 가연성 물질과의 접촉을 피하십시오. 불연성 기체로, 고온에 노출되면 용기 내부 압력이 상승하여 균열 및 폭발 위험이 있습니다. 화학적으로 안정하고 불연성입니다. 실온에서는 액체 암모니아-나트륨 금속 시약만 작용합니다. 사불화탄소는 온실 효과를 유발하는 기체입니다. 매우 안정적이며 대기 중에 오랫동안 머물 수 있어 매우 강력한 온실가스입니다. 사불화탄소는 다양한 집적 회로의 플라즈마 에칭 공정에 사용됩니다. 또한 레이저 가스로 사용되며, 저온 냉매, 용매, 윤활제, 절연 재료 및 적외선 검출기용 냉각제에 사용됩니다. 마이크로 전자 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 테트라플루오로메탄 고순도 가스와 테트라플루오로메탄 고순도 가스 및 고순도 산소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화규소 및 인산규산염 유리에 널리 사용할 수 있습니다. 텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 소자의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉동, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산의 세제에도 널리 사용됩니다. 집적 회로의 저온 냉매 및 플라즈마 건식 에칭 기술로 사용됩니다. 보관 시 주의 사항: 서늘하고 통풍이 잘 되는 불연성 가스 창고에 보관하십시오. 화기 및 열원에서 멀리하십시오. 보관 온도는 30°C를 초과해서는 안 됩니다. 쉽게 연소되는 가연성 물질 및 산화제와 분리하여 보관하고, 혼합 보관은 피해야 합니다. 보관 구역에는 누출 비상 처리 장비를 갖추어야 합니다.
① 냉매 :
테트라플루오로메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.
② 에칭 :
이는 전자 미세 제작에 단독으로 사용되거나 산소와 함께 실리콘, 이산화규소, 질화규소의 플라즈마 에칭제로 사용됩니다.
| 제품 | 사불화탄소 CF4 | ||
| 패키지 크기 | 40리터 실린더 | 50리터 실린더 | |
| 충전 순중량/실린더 | 30kg | 38kg | |
| 20' 컨테이너에 적재된 수량 | 250 실린더 | 250 실린더 | |
| 총 순중량 | 7.5톤 | 9.5톤 | |
| 실린더 순중량 | 50kg | 55kg | |
| 판막 | CGA 580 | ||
①고순도, 최신시설
②ISO 인증 제조업체;
③빠른 배송;
④모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템
⑤ 실린더를 채우기 전에 취급하는 데 대한 높은 요구 사항과 세심한 공정;"고품질, 신속한 납기, 공격적인 가격"을 고수하며, 국내외 고객들과 장기적인 협력 관계를 구축하고 있으며, 중국산 사불화 CF4 가스 최고 공급업체인 중국 공장에 대한 신규 및 기존 고객들의 많은 호평을 받고 있습니다. 저희 제품과 서비스에 관심이 있으시면 언제든지 연락 주시기 바랍니다. 고객님의 문의 접수 후 24시간 이내에 답변해 드리고, 향후 상호 무한한 이익과 사업을 창출하고자 합니다.
중국 공장중국 CF4 가스 및 사불화탄소 가스원하시는 제품이 있으시면 언제든지 문의해 주세요. 모든 문의나 요청 사항은 신속한 처리, 고품질 제품, 우대 가격, 그리고 저렴한 운송료로 처리해 드리겠습니다. 더 나은 미래를 위한 협력을 논의하기 위해 전 세계 친구분들의 방문이나 전화 상담을 진심으로 환영합니다!