반도체 산업 에칭을 위한 새로 도착한 중국 고순도 CF4 가스

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기술적인 매개변수

사불화탄소는 화학식 CF4를 갖는 할로겐화 탄화수소입니다. 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 퍼플루오로카본 또는 무기 화합물로 간주될 수 있습니다. 사불화탄소는 무색, 무취의 기체로 물에 불용성이며 벤젠과 클로로포름에 용해됩니다. 상온 및 압력에서 안정하며 강한 산화제, 인화성 또는 가연성 물질을 피하십시오. 불연성 가스이므로 고열에 노출되면 용기 내부의 압력이 상승하여 균열 및 폭발의 위험이 있습니다. 화학적으로 안정하고 불연성입니다. 액체 암모니아-나트륨 금속 시약만이 실온에서 작동할 수 있습니다. 사불화탄소는 온실 효과를 일으키는 가스입니다. 매우 안정적이고 오랫동안 대기 중에 머물 수 있으며 매우 강력한 온실가스입니다. 사불화탄소는 다양한 집적 회로의 플라즈마 에칭 공정에 사용됩니다. 레이저 가스로도 사용되며 저온 냉매, 용제, 윤활제, 절연재, 적외선 감지기의 냉각수 등에 사용됩니다. 마이크로 전자공학 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 사불화메탄 고순도 가스와 사불화메탄 고순도 가스와 고순도 산소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화규소, 인규산염 유리에 널리 사용할 수 있습니다. 텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 장치의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉동, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산의 세제에도 널리 사용됩니다. 집적회로용 저온 냉매 및 플라즈마 건식 식각 기술로 사용됩니다. 보관상의 주의사항 : 서늘하고 통풍이 잘 되는 불연성 가스창고에 보관하십시오. 화재 및 열원에서 멀리 보관하십시오. 보관 온도는 30°C를 초과해서는 안 됩니다. 쉽게(가연성) 가연성 물질, 산화제와 분리하여 보관하고 혼합보관을 피해야 합니다. 보관 장소에는 누출 비상 처리 장비를 갖추어야 합니다.

애플리케이션:

① 냉매 :

테트라플루오로메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.

② 에칭:

이는 전자 미세 가공에 단독으로 사용되거나 실리콘, 이산화규소 및 질화규소에 대한 플라즈마 식각액으로 산소와 함께 사용됩니다.

일반 패키지:

이점:

①고순도, 최신설비;

②ISO 인증서 제조업체;

③빠른 배송;

④모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템;

5충진 전 실린더 취급에 대한 높은 요구 사항과 세심한 프로세스;우리는 다음을 믿습니다. 혁신은 우리의 영혼이자 정신입니다. 좋은 품질은 우리의 삶입니다. 구매자가 가지고 있어야 할 것은 새로 도착한 중국 반도체 산업 에칭을 위한 고순도 CF4 가스를 위한 우리의 신입니다. 우리는 진심으로 모든 고객과 기업인에게 최고의 서비스를 제공하기 위해 최선을 다합니다.
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