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사양 | 99.999% |
산소+아르곤 | 1ppm 이하 |
질소 | 4ppm 이하 |
수분(H2O) | 3ppm 이하 |
HF | 0.1ppm 이하 |
CO | 0.1ppm 이하 |
CO2 | 1ppm 이하 |
SF6 | 1ppm 이하 |
할로카르빈 | 1ppm 이하 |
총 불순물 | 10ppm 이하 |
사불화탄소는 화학식 CF4를 갖는 할로겐화 탄화수소입니다. 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 퍼플루오로카본 또는 무기 화합물로 간주될 수 있습니다. 사불화탄소는 무색, 무취의 기체로 물에 불용성이며 벤젠과 클로로포름에 용해됩니다. 상온 및 압력에서 안정하며 강한 산화제, 인화성 또는 가연성 물질을 피하십시오. 불연성 가스이므로 고열에 노출되면 용기 내부의 압력이 상승하여 균열 및 폭발의 위험이 있습니다. 화학적으로 안정하고 불연성입니다. 액체 암모니아-나트륨 금속 시약만이 실온에서 작동할 수 있습니다. 사불화탄소는 온실 효과를 일으키는 가스입니다. 매우 안정적이고 오랫동안 대기 중에 머물 수 있으며 매우 강력한 온실가스입니다. 사불화탄소는 다양한 집적 회로의 플라즈마 에칭 공정에 사용됩니다. 레이저 가스로도 사용되며 저온 냉매, 용제, 윤활제, 절연재, 적외선 감지기의 냉각수 등에 사용됩니다. 마이크로 전자공학 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 사불화메탄 고순도 가스와 사불화메탄 고순도 가스와 고순도 산소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화규소, 인규산염 유리에 널리 사용할 수 있습니다. 텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 장치의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉동, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산의 세제에도 널리 사용됩니다. 집적회로용 저온 냉매 및 플라즈마 건식 식각 기술로 사용됩니다. 보관상의 주의사항 : 서늘하고 통풍이 잘 되는 불연성 가스창고에 보관하십시오. 화재 및 열원에서 멀리 보관하십시오. 보관 온도는 30°C를 초과해서는 안 됩니다. 쉽게(가연성) 가연성 물질, 산화제와 분리하여 보관하고 혼합보관을 피해야 합니다. 보관 장소에는 누출 비상 처리 장비를 갖추어야 합니다.
① 냉매 :
테트라플루오로메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.
② 에칭:
이는 전자 미세 가공에 단독으로 사용되거나 실리콘, 이산화규소 및 질화규소에 대한 플라즈마 식각액으로 산소와 함께 사용됩니다.
제품 | 사불화탄소 CF4 | ||
패키지 크기 | 40Ltr 실린더 | 50Ltr 실린더 | |
채우는 순중량/Cyl | 30Kg | 38Kg | |
20'컨테이너에 적재된 수량 | 250 실린더 | 250 실린더 | |
총 순중량 | 7.5톤 | 9.5톤 | |
실린더 용기 중량 | 50Kg | 55Kg | |
판막 | CGA 580 |
①고순도, 최신설비;
②ISO 인증서 제조업체;
③빠른 배송;
④모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템;
5충진 전 실린더 취급에 대한 높은 요구 사항과 세심한 프로세스;우수한 서비스, 다양한 고품질 제품, 경쟁력 있는 가격 및 효율적인 배송으로 인해 우리는 고객들 사이에서 좋은 평판을 얻고 있습니다. 우리는 최고의 공급업체를 위한 넓은 시장을 가진 활력 넘치는 회사입니다.중국 사불화탄소CF4 전자 가스, 우리를 믿으시면 훨씬 더 많은 것을 얻을 수 있습니다. 추가 정보가 필요하시면 언제든지 저희에게 연락해 주시기 바랍니다. 저희는 항상 최선을 다해 안내해 드릴 것을 약속드립니다.
최고 공급업체 중국 사불화탄소, CF4, 우리는 생산을 간소화하고 경쟁력 있는 가격과 고품질로 상품을 공급하기 위해 항상 새로운 기술을 개발하고 있습니다! 고객 만족이 우리의 최우선 사항입니다! 시장에 유사한 부품이 너무 많이 출시되는 것을 방지하기 위해 자신의 모델에 맞는 고유한 디자인을 개발하려는 아이디어를 알려주시면 됩니다! 우리는 귀하의 모든 요구를 충족시키기 위해 최선의 서비스를 제공할 것입니다! 꼭 지금 바로 연락주세요!