반도체용 99.999% 순도의 전자 등급 탄소 테트라플루오라이드/테트라플루오로메탄 CF4 가스 핫세일

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기술적 매개변수

사불화탄소는 화학식 CF4를 갖는 할로겐화 탄화수소입니다. 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 과불화탄소 또는 무기 화합물로 간주될 수 있습니다. 사불화탄소는 무색 무취의 기체로 물에는 녹지 않지만 벤젠과 클로로포름에는 녹습니다. 상온 상압에서 안정하며, 강산화제, 인화성 또는 가연성 물질과의 접촉을 피하십시오. 불연성 기체로, 고온에 노출되면 용기 내부 압력이 상승하여 균열 및 폭발 위험이 있습니다. 화학적으로 안정하고 불연성입니다. 실온에서는 액체 암모니아-나트륨 금속 시약만 작용합니다. 사불화탄소는 온실 효과를 유발하는 기체입니다. 매우 안정적이며 대기 중에 오랫동안 머물 수 있어 매우 강력한 온실가스입니다. 사불화탄소는 다양한 집적 회로의 플라즈마 에칭 공정에 사용됩니다. 또한 레이저 가스로 사용되며, 저온 냉매, 용매, 윤활제, 절연 재료 및 적외선 검출기용 냉각제에 사용됩니다. 마이크로 전자 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다. 테트라플루오로메탄 고순도 가스와 테트라플루오로메탄 고순도 가스 및 고순도 산소의 혼합물입니다. 실리콘, 이산화규소, 질화규소 및 인산규산염 유리에 널리 사용할 수 있습니다. 텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 소자의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉동, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산의 세제에도 널리 사용됩니다. 집적 회로의 저온 냉매 및 플라즈마 건식 에칭 기술로 사용됩니다. 보관 시 주의 사항: 서늘하고 통풍이 잘 되는 불연성 가스 창고에 보관하십시오. 화기 및 열원에서 멀리하십시오. 보관 온도는 30°C를 초과해서는 안 됩니다. 쉽게 연소되는 가연성 물질 및 산화제와 분리하여 보관하고, 혼합 보관은 피해야 합니다. 보관 구역에는 누출 비상 처리 장비를 갖추어야 합니다.

애플리케이션:

① 냉매 :

테트라플루오로메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.

② 에칭 :

이는 전자 미세 제작에 단독으로 사용되거나 산소와 함께 실리콘, 이산화규소, 질화규소의 플라즈마 에칭제로 사용됩니다.

일반 패키지:

이점:

①고순도, 최신시설

②ISO 인증 제조업체;

③빠른 배송;

④모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템

⑤ 실린더를 채우기 전에 취급하는 데 대한 높은 요구 사항과 세심한 공정;우수한 기술과 시설, 엄격한 품질 관리, 합리적인 비용, 뛰어난 공급업체 및 고객과의 긴밀한 협력을 바탕으로 당사는 반도체용 99.999% 순도 전자 등급 탄소 테트라플루오라이드/테트라플루오로메탄 CF4 가스에 대한 핫세일에서 구매자에게 최고의 이익을 제공하는 데 전념해 왔습니다. 당사의 주요 목표는 모든 구매자에게 만족스러운 기억으로 남고 전 세계의 고객 및 사용자와 장기적인 회사 관계를 구축하는 것입니다.
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