Carbon Tetrafluoride / Tetrafluoromethane CF4 Gas 99.999% 순도 반도체 용 전자 등급에 대한 뜨거운 판매

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기술적인 매개변수

사불화탄소는 화학식이 CF4인 할로겐화 탄화수소입니다.할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 과불화탄소 또는 무기 화합물로 간주할 수 있습니다.사불화탄소는 무색, 무취의 기체로 물에 녹지 않고 벤젠과 클로로포름에 녹는다.상온 상압에서 안정하고 강한 산화제, 인화성 또는 가연성 물질을 피하십시오.불연성 가스, 고열에 노출되면 용기의 내부 압력이 상승하여 균열 및 폭발의 위험이 있습니다.화학적으로 안정하고 불연성입니다.액체 암모니아-나트륨 금속 시약만 실온에서 작동할 수 있습니다.사불화탄소는 온실 효과를 일으키는 기체입니다.그것은 매우 안정적이고 오랫동안 대기 중에 머물 수 있으며 매우 강력한 온실 가스입니다.사불화탄소는 다양한 집적 회로의 플라즈마 에칭 공정에 사용됩니다.레이저 가스로도 사용되며, 저온 냉매, 용제, 윤활제, 절연재, 적외선 감지기용 냉각제 등에 사용된다.마이크로전자 산업에서 가장 많이 사용되는 플라즈마 에칭 가스입니다.테트라플루오로메탄 고순도 가스와 테트라플루오로메탄 고순도 가스와 고순도 산소의 혼합물이다.실리콘, 이산화규소, 질화규소 및 인규산염 유리에 널리 사용될 수 있습니다.텅스텐 및 텅스텐과 같은 박막 재료의 에칭은 전자 장치의 표면 세척, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉동, 누출 검사 및 인쇄 회로 생산의 세제에도 널리 사용됩니다.집적 회로용 저온 냉매 및 플라즈마 건식 에칭 기술로 사용됩니다.보관상의 주의사항 : 서늘하고 통풍이 잘 되는 불연성 가스창고에 보관하십시오.화재 및 열원에서 멀리 유지하십시오.보관 온도는 30°C를 초과하지 않아야 합니다.(가연성) 가연성 물질 및 산화제와 분리하여 보관하고 혼합 보관을 피한다.보관 구역에는 누출 비상 처리 장비가 설치되어야 합니다.

애플리케이션:

① 냉매 :

테트라플루오로메탄은 때때로 저온 냉매로 사용됩니다.

② 에칭:

실리콘, 이산화규소 및 질화규소를 위한 플라스마 식각액으로 단독으로 또는 산소와 함께 전자 미세 가공에 사용됩니다.

일반 패키지:

이점:

①고순도 최신설비;

②ISO 인증서 제조업체;

③빠른 배송;

④모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템;

⑤ 충전하기 전에 실린더를 다루기 위한 높은 요구 사항과 세심한 프로세스;우수한 기술과 시설, 엄격한 품질 명령, 합리적인 비용, 탁월한 공급자 및 고객과의 긴밀한 협력을 통해 우리는 Hot Sale for Carbon Tetrafluoride / Tetrafluoromethane CF4 Gas 99.999% Purity Electronic에 대한 구매자에게 최고의 혜택을 제공하는 데 전념해 왔습니다. Grade for Semiconductor, 우리 회사의 주요 목표는 모든 구매자에게 만족스러운 기억을 제공하고 전 세계 고객 및 사용자와 장기적인 회사 관계를 구축하는 것입니다.
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