레이저 가스

레이저 가스는 주로 전자 산업에서 레이저 어닐링 및 리소그래피 가스에 사용됩니다.휴대폰 화면의 혁신과 응용 분야의 확장에 힘입어 저온 폴리실리콘 시장의 규모는 더욱 확대될 것이며 레이저 어닐링 공정은 TFT의 성능을 크게 향상시켰습니다.반도체 제조용 ArF 엑시머 레이저에 사용되는 네온, 불소 및 아르곤 가스 중 네온은 레이저 혼합 가스의 96% 이상을 차지합니다.반도체 기술의 정교화로 엑시머 레이저의 사용이 증가하였고, 이중 노광 기술의 도입으로 ArF 엑시머 레이저가 소모하는 네온 가스의 수요가 급격히 증가하였습니다.전자 특수 가스의 국산화 촉진으로 국내 제조업체는 향후 더 나은 시장 성장 공간을 갖게 될 것입니다.

리소그래피 장비는 반도체 제조의 핵심 장비입니다.리소그래피는 트랜지스터의 크기를 정의합니다.리소그래피 산업 체인의 공동 개발은 리소그래피 기계의 돌파구의 핵심입니다.포토레지스트, 포토리소그래피 가스, 포토마스크, 코팅 및 현상 장비와 같은 매칭 반도체 재료는 높은 기술 콘텐츠를 가지고 있습니다.리소그래피 가스는 리소그래피 기계가 원자외선 레이저를 생성하는 가스입니다.다른 리소그래피 가스는 다른 파장의 광원을 생성할 수 있으며, 그 파장은 리소그래피 기계의 핵심 중 하나인 리소그래피 기계의 해상도에 직접적인 영향을 미칩니다.2020년 리소그래피 기계의 총 글로벌 판매는 413대가 될 것이며, 그 중 ASML 판매 258대가 62%, Canon 판매 122대가 30%, Nikon 판매 33대가 8%를 차지할 것입니다.