옥타플루오로사이클로부탄(C4F8)

간단한 설명:

옥타플루오로사이클로부탄 C4F8, 가스 순도: 99.999%, 종종 식품 에어로졸 추진제 및 중간 가스로 사용됩니다. 반도체 PECVD(Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition) 공정에 많이 사용되며, C4F8은 CF4나 C2F6의 대체용으로 사용되며 세정가스, 반도체 공정 식각가스로 사용된다.


제품 세부정보

제품 태그

기술적인 매개변수

 

 

옥타플루오로사이클로부탄콘텐츠

≥99.999

≥99.90

산소

5ppm 이하

≤0.0020%

수분

2ppm 이하

≤0.0020%

옥타플루오로사이클로부탄사이클로부탄의 과불소화 유도체인 화학물질이며, 화학식은 C4F8이다. 무색, 무취의 불연성 가스입니다. 자연적으로 안정하고 독성이 없습니다. 고열의 경우 용기 내부의 압력이 상승하여 균열 및 폭발의 위험이 있습니다. 연소(분해) 생성물은 불화수소입니다. 옥타플루오로사이클로부탄은 매우 안정적이며 정상적인 조건에서는 다른 물질과 반응하지 않습니다. 저장 및 반응 용기는 120°C에서 주철과 스테인레스 스틸로 만들 수 있으며, 175°C에서는 강철을 사용할 수 있습니다. 400°C를 초과하면 니켈, 백금 등 인코넬 소재도 약간 손상될 수 있습니다. 500°C에서 이러한 물질은 분해에 촉매 효과를 줍니다. 고온(600°C)에서 옥타플루오로사이클로부탄은 탄소, 사불화탄소 및 독성 화합물로 분해될 수 있습니다. 옥타플루오로사이클로부탄은 매우 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 최근에는 금지된 염화불화탄소 화합물을 대체하는 냉매로 널리 사용되고 있습니다. 또한 가스 절연 매체, 용제, 스프레이, 발포제 및 대규모 회로 에칭액에도 일반적으로 사용됩니다. , C2F4 및 C3F6 단량체 생산을 위한 히트펌프 작동유체 및 원료. 고순도 옥타플루오로사이클로부탄(5N 이상)은 VLSI 회로의 에칭제, 세척제로 사용됩니다. 안정적인 특성, 무독성, 오존층 파괴 지수(ODP)가 0이고 우수한 절연성으로 인해 옥타플루오로사이클로부탄은 최근 몇 년 동안 고전압 절연, 세척 및 에칭, 플라즈마 처리와 같은 기술 분야에서 널리 사용되었습니다. 누출 시 응급조치: 자급식 호흡장비 및 작업복을 착용하십시오. 가스 공급원을 차단하십시오. 환기 및 대류, 희석 및 확산. 누출된 용기를 개방된 장소로 옮기고 환기에 주의하십시오. 누출된 용기는 더 이상 사용할 수 없으며, 남은 가스를 제거하기 위한 기술적 처리를 거쳐야 합니다.

애플리케이션:

① 식품산업:

주로 식품산업의 분무제, 냉매로 사용됩니다.

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② 전자산업:

집적 회로의 매력으로 SF6와의 유전체 블렌드 및 불화 화합물의 중합 보조제로도 사용됩니다.

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일반 패키지:

제품

C4F8-옥타플루오로사이클로부탄

패키지 크기

47Ltr 실린더

926 Ltr 실린더

채우는 순중량/Cyl

45Kg

1000kg

20'컨테이너에 적재된 수량

250 실린더

14실

총 순중량

11.25톤

14톤

실린더 용기 중량

50Kg

500kg

판막

DISS716

이점:

①시장에 출시된 지 10년이 넘었습니다.

②ISO 인증서 제조업체;

③빠른 배송;

④안정적인 원료 공급원;

⑤모든 단계의 품질 관리를 위한 온라인 분석 시스템;

6충진 전 실린더 취급에 대한 높은 요구 사항과 세심한 프로세스;


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